Pat
J-GLOBAL ID:200903040976761607
三次元形態計測方法
Inventor:
,
Applicant, Patent owner:
Agent (1):
石田 敬 (外3名)
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1997270425
Publication number (International publication number):1998160693
Application date: Sep. 17, 1997
Publication date: Jun. 19, 1998
Summary:
【要約】【課題】 セラミックス焼結体に代表される多相材料中の特定相(粒子、ボイド、クラック等)の形態を三次元的に計測する方法を提供する。【解決手段】 複数の相から成る多相材料中の特定相の形態を三次元計測する方法であって、上記多相材料を所定深さまで加工除去して一断面を平面として表出させた後、この平面の二次元観察像を形成する加工・観察サイクルを、深さ方向に順次繰り返し、複数の断面について得られた二次元観察像を上記繰り返し順に合成して三次元像を形成することを特徴とする。
Claim (excerpt):
複数の相から成る多相材料中の特定相の形態を三次元計測する方法であって、上記多相材料を所定深さまで加工除去して一断面を平面として表出させた後、この平面の二次元観察像を形成する加工・観察サイクルを、深さ方向に順次繰り返し、複数の断面について得られた二次元観察像を上記繰り返し順に合成して三次元像を形成することを特徴とする三次元形態計測方法。
IPC (4):
G01N 23/225
, H01J 37/31
, G01N 33/38
, H01L 21/3065
FI (4):
G01N 23/225
, H01J 37/31
, G01N 33/38
, H01L 21/302 D
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (2)
-
特開平2-216042
-
二次イオン質量分析方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平6-333056
Applicant:日本電気株式会社
Return to Previous Page