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J-GLOBAL ID：200903040976870295

新規ビススルホニルジアゾメタン

Inventor： 佐藤 和史 ,  新田 和行 ,  島巻 利治 ,  庫本 伸哉 ,  早川 訓男
Applicant, Patent owner： 東京応化工業株式会社 ,  ダイトーケミックス株式会社
Agent (1)： 阿形 明 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1997198954
Publication number (International publication number)：1999035573
Application date： Jul. 24, 1997
Publication date： Feb. 09, 1999
Summary：

【要約】【課題】 化学増幅型レジストの酸発生剤として用いた場合、露光部と未露光部のコントラストに優れ、高残膜率を示す新規なビススルホニルジアゾメタンを提供する。【解決手段】 一般式【化1】(Rは水素原子、又は同一環内の2個のRでジメチルメチレン基を形成する基、nは0又は1)で表わされるビススルホニルジアゾメタンとする。

Claim (excerpt)：

一般式【化1】(式中のRはそれぞれ水素原子であるか、又は同一環内の2個のRでジメチルメチレン基を形成する基であり、nは0又は1である)で表わされるビススルホニルジアゾメタン。

IPC (2)：

C07D309/10 ,  G03F 7/004 503

FI (2)：

C07D309/10 ,  G03F 7/004 503 A