Pat

J-GLOBAL ID：200903041007031126

ガス浄化用触媒およびその製造方法

Inventor： 高村 孝次
Applicant, Patent owner： 高村 孝次 ,  谷 正士
Agent (1)： 武 顕次郎
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2000359125
Publication number (International publication number)：2002159860
Application date： Nov. 27, 2000
Publication date： Jun. 04, 2002
Summary：

【要約】【課題】 優れたガス浄化効率を長期間にわたって維持でき、しかも単位重量当たりの反応促進効果が高いガス浄化用触媒を提供する。【解決手段】 プラズマ放電下でガスを浄化するガス浄化用触媒において、少なくとも酸化ハフニウムを2〜15重量%、酸化ジルコンを10〜25重量%、酸化マンガンを10〜25重量%、炭素を20〜30重量%含有することを特徴とする。

Claim (excerpt)：

プラズマ放電下でガスを浄化するガス浄化用触媒において、少なくとも酸化ハフニウムを2〜15重量%、酸化ジルコンを10〜25重量%、酸化マンガンを10〜25重量%、炭素を20〜30重量%含有することを特徴とするガス浄化用触媒。

IPC (6)：

B01J 27/224 ZAB ,  B01D 53/94 ,  F01N 3/02 321 ,  F01N 3/08 ,  F01N 3/10 ,  F01N 3/24

FI (6)：

B01J 27/224 ZAB A ,  F01N 3/02 321 A ,  F01N 3/08 C ,  F01N 3/10 A ,  F01N 3/24 A ,  B01D 53/36 104 Z

F-Term (64)：

3G090AA03 ,  3G090AA06 ,  3G090BA01 ,  3G090BA08 ,  3G091AA02 ,  3G091AA18 ,  3G091AB14 ,  3G091BA00 ,  3G091BA11 ,  3G091BA14 ,  3G091BA15 ,  3G091BA20 ,  3G091BA39 ,  3G091CA21 ,  3G091GA01 ,  3G091GB01W ,  3G091GB01Z ,  3G091GB03W ,  3G091GB10W ,  3G091GB17Z ,  3G091HA07 ,  3G091HA44 ,  4D048AA02 ,  4D048AA06 ,  4D048AA14 ,  4D048AA18 ,  4D048AB03 ,  4D048AB07 ,  4D048BA03Y ,  4D048BA06X ,  4D048BA08X ,  4D048BA18X ,  4D048BA28X ,  4D048BA45X ,  4D048BB01 ,  4D048EA03 ,  4G069AA02 ,  4G069AA03 ,  4G069AA08 ,  4G069BA01B ,  4G069BA02A ,  4G069BA02B ,  4G069BA05A ,  4G069BA05B ,  4G069BB04A ,  4G069BB04B ,  4G069BB15A ,  4G069BB15B ,  4G069BC52A ,  4G069BC52B ,  4G069BC62A ,  4G069BC62B ,  4G069CA02 ,  4G069CA03 ,  4G069CA09 ,  4G069DA06 ,  4G069EA02X ,  4G069EA02Y ,  4G069EB18Y ,  4G069FA02 ,  4G069FB07 ,  4G069FB30 ,  4G069FB62 ,  4G069FC08