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J-GLOBAL ID:200903041026824471

コリメータ評価方法およびコリメータ評価装置

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 樺山 亨 (外1名)
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2001080706
Publication number (International publication number):2002277349
Application date: Mar. 21, 2001
Publication date: Sep. 25, 2002
Summary:
【要約】【課題】高価な光学部品を必要とせず、非常に簡単な方法でコリメートの状態を評価することができるコリメータ評価方法を提供する。【解決手段】本発明は、光源から出射され集光素子などで概略コリメートされた光束のコリメートの具合を評価するコリメータ評価方法であって、コリメートされた光束をアパーチャ1を通過させることによって、該アパーチャ1から一定間隔ρを隔てた位置に置かれた投影部材2上に発生するビームプロファイルから、コリメートの度合いを評価する。これにより、非常に高額なプリズムや平面ミラーなどを用いることなく、正確な形状が判っているアパーチャと、アパーチャからの正確な距離を設定するだけで、コリメーションの状態を判別できるようになり、非常に簡単で安価で、また、正確なコリメータ評価が可能となる。
Claim (excerpt):
光源から出射され集光素子などで概略コリメートされた光束のコリメートの具合を評価するコリメータ評価方法であって、コリメートされた光束をアパーチャを通過させることによって、該アパーチャから一定間隔を隔てた位置に発生するビームプロファイルから、コリメートの度合いを評価することを特徴とするコリメータ評価方法。
IPC (3):
G01M 11/02 ,  G01M 11/00 ,  G21K 1/02
FI (4):
G01M 11/02 B ,  G01M 11/00 L ,  G01M 11/00 M ,  G21K 1/02 C
F-Term (3):
2G086FF06 ,  2G086GG01 ,  2G086HH07
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (1)
  • 特開平4-048231

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