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J-GLOBAL ID：200903041032205287
薄膜の形成方法
Inventor：
,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：
丸島 儀一
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1997100177
Publication number (International publication number)：1998286515
Application date： Apr. 17, 1997
Publication date： Oct. 27, 1998
Summary：
【要約】【課題】 有機薄膜を均一に、かつ所望の量で堆積しうる形成方法を提供する。【解決手段】 凹凸のある基板表面に1,2,3,4,5にフッ素含有化合物もしくは高分子化合物を含有する第1薄膜6をラングミュア・ブロジェット法により堆積させる工程と、該第1薄膜に重畳して任意の有機化合物を含む第2薄膜7を基板上に堆積させる工程をおこなう。
Claim (excerpt)：
基板表面に、フッ素含有化合物もしくは高分子化合物を含有する第1薄膜をラングミュア・ブロジェット法により堆積させる工程と、該第1薄膜に重畳して任意の有機化合物を含む第2薄膜を基板上に堆積させる工程からなることを特徴とする薄膜の形成方法。
IPC (2)：
FI (2)：
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