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J-GLOBAL ID：200903041061678437

反射防止光学部材および防汚層の形成方法

Inventor： 大畑 浩一 ,  富川 典俊 ,  渡辺 二郎 ,  浅井 光雄 ,  上原 仁
Applicant, Patent owner： 凸版印刷株式会社 ,  信越化学工業株式会社
Agent (1)： 秋元 輝雄
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1998163239
Publication number (International publication number)：1999352304
Application date： Jun. 11, 1998
Publication date： Dec. 24, 1999
Summary：

【要約】【課題】 表面に、指紋、皮脂などの汚れの付着を防止し、付着しても容易に拭き取れる防汚層を高い耐久性で形成した反射防止光学部材およびこの防汚層を形成する方法を提供する。【解決手段】 透明基材上の少なくとも片面に反射防止層を有する反射防止光学部材において、最表面上に特定の有機ケイ素化合物(一般式1)、および他の特定の有機ケイ素化合物(一般式2、3)を含有する防汚剤からなる防汚層を形成した反射防止光学部材。前記防汚層をウェットコーティンク法(ディップコーティング法、スピンコーティング法など)により前記反射防止層上に塗布し、必要ならば加熱、加湿、紫外線照射、又は電子線照射などを行う。【化1】【化2】【化3】

Claim (excerpt)：

透明基材上の少なくとも片面に反射防止層を有する反射防止光学部材において、最表面上に一般式(1)で表される有機ケイ素化合物、および下記一般式(2)で表される有機ケイ素化合物を含有する防汚剤からなる防汚層が形成されたことを特徴とする反射防止光学部材。【化1】(ここに、Rf は炭素数1〜10のパーフロロアルキル基、R1 は炭素数2〜10の2価炭化水素基である。)【化2】〔式中、R2 は互いに同一又は異種の炭素数1〜10の1価炭化水素基、R3 は下記一般式(3)【化3】(ここに、R6 は炭素数2〜10の2価炭化水素基、R7 は炭素数1〜10の1価炭化水素基、aは0〜2の整数である。)で表される加水分解性基、R4 はフッ素原子を含んでいてもよい炭素数1〜10の1価炭化水素基、R5 はR3 又はR4 を示すが、各R5 は互いに同一であっても異なっていてもよい。kは0〜100、mは0〜100、nは0〜5の整数であるが、nは0の場合、R5 の少なくとも1個はR3 である。〕

IPC (4)：

G02B 1/11 ,  B32B 27/18 ,  C08G 77/20 ,  G02B 1/10

FI (4)：

G02B 1/10 A ,  B32B 27/18 Z ,  C08G 77/20 ,  G02B 1/10 Z

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (1)

• 表面処理剤
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平9-303553   Applicant：信越化学工業株式会社