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J-GLOBAL ID：200903041062191400

化学増幅型レジスト組成物の酸発生剤用の塩

Inventor： 原田 由香子 ,  武元 一樹 ,  戸石 好治
Applicant, Patent owner： 住友化学株式会社
Agent (3)： 久保山 隆 ,  中山 亨 ,  榎本 雅之
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2006037622
Publication number (International publication number)：2006257078
Application date： Feb. 15, 2006
Publication date： Sep. 28, 2006
Summary：

【課題】従来よりもさらに優れた解像度を示すとともに、パターン形状が改良されたレジストを与える酸発生剤に好適な塩、該塩を有効成分とする酸発生剤を提供する。【解決手段】式(I)で示される塩。(式中、Q1、Q2は互いに独立にフッ素原子又は炭素数1〜6のペルフルオロアルキル基を表し、Xは-OH又は-Y-OHを表し、nは1〜9の整数を表し、A+は有機対イオンを表す。Yは炭素数1〜6の直鎖もしくは分岐アルキレン基を表す。)前記記載の塩を有効成分とすることを特徴とする酸発生剤。【選択図】なし

Claim (excerpt)：

式(I)で示される塩。

IPC (6)：

C07C 381/12 ,  G03F 7/004 ,  G03F 7/039 ,  H01L 21/027 ,  C08L 101/02 ,  C08K 5/42

FI (7)：

C07C381/12 ,  G03F7/004 503A ,  G03F7/039 601 ,  G03F7/004 501 ,  H01L21/30 502R ,  C08L101/02 ,  C08K5/42

F-Term (23)：

2H025AA02 ,  2H025AA03 ,  2H025AB16 ,  2H025AC04 ,  2H025AC05 ,  2H025AC08 ,  2H025AD03 ,  2H025BE07 ,  2H025BG00 ,  2H025CC20 ,  2H025FA12 ,  2H025FA17 ,  4H006AA01 ,  4H006AA03 ,  4H006AB76 ,  4H006BJ30 ,  4H006BM10 ,  4H006BM71 ,  4J002BC121 ,  4J002BG071 ,  4J002EV256 ,  4J002FD196 ,  4J002FD206

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (5)

• 特開平4-39665号公報[請求項1]
  
• レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平4-156818   Applicant：富士通株式会社
• 放射線感光材料及びパターン形成方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平6-276597   Applicant：富士通株式会社
• レジスト組成物及びレジストパターン形成方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平9-130131   Applicant：富士通株式会社
• ポジ型レジスト組成物
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2003-039501   Applicant：住友化学工業株式会社

Cited by examiner (3)

• ポジ型レジスト組成物
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2003-039501   Applicant：住友化学工業株式会社
• 酸発生剤、スルホン酸、スルホン酸誘導体および感放射線性樹脂組成物
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2002-189133   Applicant：JSR株式会社
• ポジ型レジスト組成物
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2000-321128   Applicant：富士写真フイルム株式会社