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J-GLOBAL ID:200903041088511798
マイクロ波プラズマ処理装置及びその処理方法
Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1):
宮川 貞二
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1998341779
Publication number (International publication number):2000167385
Application date: Dec. 01, 1998
Publication date: Jun. 20, 2000
Summary:
【要約】【課題】 マイクロ波プラズマ処理装置の試料を入れる処理容器以外の部分を小型化し、小型化しても均一なプラズマを形成でき、シーズニング時間が短縮化されたマイクロ波プラズマ処理装置を提供する。【解決手段】 プラズマを用いて処理される試料を収容する処理容器と;処理容器を封止し、かつプラズマを生成するマイクロ波を透過させて処理容器内に導入する封止部材と;周側面にマイクロ波を導入するマイクロ波導入口が開設された環状の管状部材であって、導入されたマイクロ波を伝播させる誘電体が内嵌された環状の管状部材と;環状の管状部材と封止部材との間に、封止部材及び環状の管状部材に対向して配設され、マイクロ波が通過する所定のスリットが開設されたスリット板と;封止部材の温度を調整する温度調整手段とを備えることを特徴とする;マイクロ波プラズマ処理装置とする。
Claim (excerpt):
プラズマを用いて処理される試料を収容する処理容器と;前記処理容器を封止し、かつ前記プラズマを生成するマイクロ波を透過させて前記処理容器内に導入する封止部材と;周側面に前記マイクロ波を導入するマイクロ波導入口が開設された環状の管状部材であって、導入されたマイクロ波を伝播させる誘電体が内嵌された環状の管状部材と;前記環状の管状部材と前記封止部材との間に、前記封止部材及び前記環状の管状部材に対向して配設され、前記マイクロ波が通過する所定のスリットが開設されたスリット板と;前記封止部材の温度を調整する温度調整手段とを備えることを特徴とする;マイクロ波プラズマ処理装置。
IPC (4):
B01J 19/08
, C23C 16/50
, H01L 21/205
, H01L 21/3065
FI (4):
B01J 19/08 E
, C23C 16/50 E
, H01L 21/205
, H01L 21/302 B
F-Term (35):
4G075AA30
, 4G075BA01
, 4G075BA08
, 4G075BC04
, 4G075BC06
, 4G075CA26
, 4G075CA47
, 4G075CA62
, 4G075DA02
, 4K030CA12
, 4K030FA01
, 4K030JA10
, 4K030KA08
, 4K030KA39
, 4K030KA41
, 5F004AA01
, 5F004AA02
, 5F004AA16
, 5F004BA13
, 5F004BB14
, 5F004BB18
, 5F004BC08
, 5F004CA01
, 5F004CA09
, 5F045AA09
, 5F045DQ04
, 5F045EH02
, 5F045EH03
, 5F045EH18
, 5F045EH19
, 5F045EK06
, 5F045EK08
, 5F045EK10
, 5F045EK27
, 5F045GB05
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (2)
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プラズマ処理装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平6-089476
Applicant:住友金属工業株式会社
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マイクロ波導入装置及び表面処理方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平10-077349
Applicant:キヤノン株式会社
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