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J-GLOBAL ID：200903041096344264

表面処理用組成物及びゴムの表面処理方法

Inventor： 下津 弘義 ,  高橋 敏廣
Applicant, Patent owner： 東芝シリコーン株式会社
Agent (1)： 古谷 馨 (外3名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1993195672
Publication number (International publication number)：1995048544
Application date： Aug. 06, 1993
Publication date： Feb. 21, 1995
Summary：

【要約】【目的】 各種基材、特にゴム表面に非粘着性を付与し、均一に表面を仕上げ得る表面処理用組成物を提供する。【構成】 (A) 25°Cにおける粘度が50〜10,000,000 cStの両末端が水酸基閉塞のポリジオルガノシロキサン、(B) ケイ素原子に結合した水素原子が1分子中に少なくとも3個存在するポリオルガノハイドロジェンシロキサン、(C) 硬化触媒及び(D) 炭素数7〜10の分岐状アルキル系飽和炭化水素を40重量%以上含む有機溶媒とを含有する表面処理用組成物。

Claim (excerpt)：

(A) 25°Cにおける粘度が50〜10,000,000 cStの両末端が水酸基閉塞のポリジオルガノシロキサン(B) ケイ素原子に結合した水素原子が1分子中に少なくとも3個存在するポリオルガノハイドロジェンシロキサン(C) 硬化触媒(D) 炭素数7〜10の分岐状アルキル系飽和炭化水素を40重量%以上含む有機溶媒とを含有する表面処理用組成物。

IPC (4)：

C09D183/06 PMU ,  C08J 7/04 CEQ ,  C08L 83/05 ,  C08L 83/06 LRZ