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J-GLOBAL ID：200903041102074177
位置合わせ方法
Inventor：
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：
大森 聡
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1993086067
Publication number (International publication number)：1994302496
Application date： Apr. 13, 1993
Publication date： Oct. 28, 1994
Summary：
【要約】【目的】 被露光ウエハが局所的な非線形歪みを有する場合にも高精度な位置合わせを行う。【構成】 ウエハW内の露光ショットから選択されたサンプルショットSA(1)〜SA(8)についてステージ座標系(X,Y)上での座標位置を計測し、この計測結果から各露光ショットES(i,j) のショット内の歪み量を求める。位置合わせ対象とする露光ショットES(i,j) と各サンプルショットSA(k)との間の歪み量の積算値に応じて、各サンプルショットSA(k)にX方向の重みWx(ijk)及びY方向の重みWy(ijk)を付与し、この重みを用いて重み付けEGA方式で各露光ショットES(i,j) のアライメントを行う。
Claim (excerpt)：
基板上に設定された試料座標系上の配列座標に基づいて前記基板上に配列された複数の被加工領域の各々を、前記基板の移動位置を規定する静止座標系内の所定の加工位置に対して位置合わせするに当たって、前記複数の被加工領域の内、少なくとも3つの予め選択されたサンプル領域の前記静止座標系上における座標位置を計測し、該計測された複数の座標位置を統計計算することによって、前記基板上の複数の被加工領域の各々の前記静止座標系上における配列座標を算出し、該算出された複数の被加工領域の各々の配列座標に従って前記基板の移動位置を制御することによって、前記複数の被加工領域の各々を前記加工位置に対して位置合わせする方法において、前記基板上の前記複数の被加工領域のそれぞれの内部の歪み量を求める第1工程と、前記複数の被加工領域の各々において、該被加工領域と前記サンプル領域との間の前記第1工程で求められた歪み量の積分値に応じて、前記サンプル領域のそれぞれに対して重み係数を割り当てる第2工程と、前記サンプル領域のそれぞれの前記静止座標系上における座標位置を計測する第3工程と、前記サンプル領域のそれぞれの前記試料座標系上の配列座標から1組の変換パラメータを用いて求めた前記静止座標系上の配列座標と、前記計測された座標位置との差分の自乗に前記重み係数を乗じて得られた誤差成分を、前記予めサンプル領域の全部について加算して得られる残留誤差成分が最小になるように、前記複数の被加工領域の各被加工領域毎に前記1組の変換パラメータの値を定める第4工程と、前記各被加工領域毎に求められた前記1組の変換パラメータの値を用いて、前記基板上の複数の被加工領域の各々の前記静止座標系上における配列座標を算出する第5工程と、を有することを特徴とする位置合わせ方法。
IPC (4)：
H01L 21/027
, G03B 27/32
, G03F 7/22
, G03F 9/00
