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J-GLOBAL ID：200903041114326708

光導波路の製造方法

Inventor： 中村 史朗 ,  柳川 久治
Applicant, Patent owner： 古河電気工業株式会社
Agent (1)： 鈴江 武彦
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1992053791
Publication number (International publication number)：1993257021
Application date： Mar. 12, 1992
Publication date： Oct. 08, 1993
Summary：

【要約】【目的】本発明は、コア層およびクラッド層内における層厚や屈折率のバラツキが小さく、しかも光パワーの伝搬損失が小さい光導波路を得ることができる製造方法を提供することを目的とする。【構成】基板上に第1のクラッド層およびコア層を形成する工程、前記コア層を所望のパターンにパターニングする工程、並びに前記コア層上に第2のクラッド層を形成する工程を具備する光導波路の製造方法において、前記第1および第2のクラッド層の熱膨張係数と前記コア層の熱膨張係数との差が最小になるように前記第1および第2のクラッド層、並びに前記コア層にドーパントをドーピングすることを特徴としている。

Claim (excerpt)：

基板上に第1のクラッド層およびコア層を形成する工程、前記コア層を所望のパターンにパターニングする工程、並びに前記コア層上に第2のクラッド層を形成する工程を具備する光導波路の製造方法において、前記第1および第2のクラッド層の熱膨張係数と前記コア層の熱膨張係数との差が最小になるように前記第1および第2のクラッド層、並びに前記コア層にドーパントをドーピングすることを特徴とする光導波路の製造方法。

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (2)

• 特公昭57-009910
  
• 特開昭52-114451