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J-GLOBAL ID：200903041117238028

マイクロ波プラズマエッチング装置

Inventor： 本村 英臣
Applicant, Patent owner： ソニー株式会社
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1995115066
Publication number (International publication number)：1996288265
Application date： Apr. 17, 1995
Publication date： Nov. 01, 1996
Summary：

【要約】【目的】 ウェハの表面全面にわたり均一な処理を施すようにしたマイクロ波プラズマエッチング装置を提供する。【構成】 本マイクロ波プラズマエッチング装置は、従来の装置の構成に加えて、導波管16の回転装置32と、導波管16の支持装置34とを備えている。回転装置32は、導波管16の下降部16bに同心状に取り付けられた歯車36と、その歯車36に噛み合い、かつ電気モータ38の駆動により回転して、歯車36を駆動する駆動歯車40とから構成されている。支持装置34は、導波管16の水平部16bを支持する支持柱42と、支持柱42の荷重を受ける支持板44とから構成されている。支持柱42の上端は水平部16aに固定され、下端は自在に回転するボール46が取り付けてあって、ボールの回転により円を描いて固定された支持板44上を平滑に移動する。以上の構成により、マイクロ波は、全ての方向から順次連続して導入され、エッチング速度の均一性が向上する。

Claim (excerpt)：

内側にエッチング室を収容し、外側に磁石を配置させた外箱体と、一方の端部にマイクロ波発生装置を備えた水平部と水平部の他方の端部から外箱体に向かって下降する下降部とから構成された導波路とを備え、反応ガスが送入されているエッチング室に導波路と外箱体とを介してマイクロ波を導入してプラズマを生成させつつエッチング室内の基体にエッチング処理を施すマイクロ波プラズマエッチング装置において、外箱体と導波路との接続部を相互に回動自在にかつ気密に接続し、エッチング室の垂直方向中心軸の周りに導波路を回動させるようにしたことを特徴とするマイクロ波プラズマエッチング装置。

IPC (3)：

H01L 21/3065 ,  C23F 4/00 ,  H05H 1/46

FI (3)：

H01L 21/302 B ,  C23F 4/00 D ,  H05H 1/46 B