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J-GLOBAL ID：200903041131965900

異物観察装置

Inventor： 佐藤 修
Applicant, Patent owner： 株式会社日立製作所
Agent (1)： 小川 勝男
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1992027797
Publication number (International publication number)：1993223747
Application date： Feb. 14, 1992
Publication date： Aug. 31, 1993
Summary：

【要約】【目的】光学式表面異物検査装置より情報提供された異物情報を元に、走査形電子顕微鏡で異物の観察を行う場合に、微小な異物の発見を容易にすることを目的とする。【構成】ウェーハ上で異物の存在を特定できる範囲内を、多数の分割領域に分け、1分割領域ごとに拡大して観察することによって達成される。【効果】異物の検出位置精度のあまりよくない光学式表面異物検査装置で発見された極く微小な異物でも、走査形電子顕微鏡側での容易に発見・観察が可能となる。

Claim (excerpt)：

ウェーハの光学式表面異物検査装置およびその類似装置と、該装置により提供されるウェーハ座標、および異物情報を用いて、異物または欠陥等の形状観察または分析を行う電子顕微鏡とを備えた異物観察装置において、前記光学式表面異物検査装置およびその類似装置によって提供される異物の大きさのレベルを判定する手段と、該異物レベルが一定値以下のとき、前記ウェーハの観察領域をN×Mの分割領域に分け、前記電子顕微鏡は前記分割領域毎に分割観察する手段を有することを特徴とする異物観察装置。

IPC (5)：

G01N 21/88 ,  G01B 11/30 ,  G01N 21/84 ,  H01J 37/22 ,  H01L 21/66

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (2)

• 特開昭63-013342
  
• 特開昭62-076247