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J-GLOBAL ID：200903041132346821

鱗片状の低結晶性シリカとその製造方法

Inventor：
寺瀬 邦彦

About 寺瀬 邦彦

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田中 正治

About 田中 正治

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井上 真樹

About 井上 真樹

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小野 英一

About 小野 英一


Applicant, Patent owner：
洞海化学工業株式会社

About 洞海化学工業株式会社


Agent (1)： 小池 信夫
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1997179120
Publication number (International publication number)：1999029317
Application date： Jun. 20, 1997
Publication date： Feb. 02, 1999
Summary：
【要約】【課題】 人体に無害であり、表面の反応性に優れる、化粧料、制汗剤、パック剤、塗料もしくは樹脂などのフィラーや各種担体等の用途に好適に使用できる、鱗片状の低結晶性シリカ及びその製造方法を提供する。【解決手段】 厚さ0.001〜1μm、厚さに対する鱗片状板の最長長さの比(アスペクト比)10以上、厚さに対する鱗片状板の最小長さの比3以上の鱗片状のシリカで、結晶型遊離珪酸の測定値10%未満、IRスペクトルの3600〜3700、3400〜3500cm-1にシラノール基の吸収を有する低結晶性の鱗片状シリカ及び珪酸アルカリ水溶液を脱アルカリして得られるシリカゾルを水熱処理するその製造方法。
Claim (excerpt)：
厚さが0.001〜1μmの鱗片状板からなり、該厚さに対する該鱗片状板の最長長さの比(アスペクト比)が少なくとも10、該厚さに対する該鱗片状板の最小長さの比が少なくとも3を有する鱗片状のシリカであって、かつ、X線回折分析法による結晶型遊離珪酸の測定値が10%未満であることを特徴とする低結晶性の鱗片状シリカ。
Patent cited by the Patent：
Cited by examiner (11)
  • 特開平2-258615
  • 特開平4-145011
  • 特公昭50-015756
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Article cited by the Patent：
Cited by examiner (1)

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