Pat

J-GLOBAL ID：200903041132581510

プラズマ処理装置

Inventor： 田原 一弘 ,  坂本 高雄
Applicant, Patent owner： 東京エレクトロン株式会社 ,  東京エレクトロン山梨株式会社
Agent (1)： 亀谷 美明 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1993301271
Publication number (International publication number)：1995130498
Application date： Nov. 05, 1993
Publication date： May. 19, 1995
Summary：

【要約】【目的】 再現性のよいプラズマを発生する処理装置を提供する。【構成】 本発明によれば、高周波電源22から出力された信号を分周器23により分周し、分周された第1の信号(f)と第2の信号(f/n)をそれぞれ、上部電極18および下部電極7に印加するので、両信号の周波数の同期が完全にとれており、再現性の高いプラズマを処理室2内に発生することができる。またその際に第1の信号(f)と第2の信号(f/n)の周波数の相違を1桁の範囲に抑えることにより、被処理体の処理面に対するダメージの少ない処理を行うことができる。

Claim (excerpt)：

処理室内に配置され被処理体が載置される下部電極と、前記処理室内において前記下部電極に対向する位置に配置される上部電極とを備えたプラズマ処理装置において、発振器により出力された第1の周波数(f)を有する第1の出力信号を分周し第2の周波数(f/n)を有する第2の出力信号を得る分周器と、前記第1の出力信号を所望の電力に増幅するための第1の増幅器と、前記第2の出力信号を所望の電力に増幅するための第2の増幅器と、増幅された前記第1の信号を前記上部電極または前記下部電極のいずれか一方に印加するための第1の回路と、増幅された前記第2の信号を前記上部電極または前記下部電極のいずれか他方に印加するための第2の回路とを備えたことを特徴とする、プラズマ処理装置。

IPC (6)：

H05H 1/46 ,  C23C 14/40 ,  C23C 16/50 ,  C23C 16/52 ,  C23F 4/00 ,  H01L 21/3065