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J-GLOBAL ID：200903041136542382

還元ガス製造方法

Inventor： 高本 泰 ,  国友和也 ,  大久保 正 ,  江頭達彦
Applicant, Patent owner： 新日本製鐵株式会社
Agent (1)： 本多 小平 (外3名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1994089695
Publication number (International publication number)：1995291601
Application date： Apr. 27, 1994
Publication date： Nov. 07, 1995
Summary：

【要約】【目的】 炭化水素ガス・水素・一酸化炭素ガスを含む原料ガスから、高温の還元ガスを製造する方法を提供する。【構成】 原料ガスを酸素で部分燃焼して還元ガスを生成させる際に、温度を1300°C以上に保つことにより、未分解の炭化水素ガスを減らし、水蒸気・二酸化炭素の生成を抑制し、還元能力の高い還元ガスを製造する。更に炭素数3以上の高級炭化水素ガスの原料ガス中の濃度を60%以下にすることにより、還元ガス中のすす濃度を減少することができる。

Claim (excerpt)：

1種以上のC<SB>m</SB>H<SB>n</SB>ガスを含む原料ガスとO<SB>2</SB>ガスとの部分燃焼反応[1]と[1]に引き続いて生じる部分燃焼反応[2][3]より還元ガスを製造する方法において、または1種以上のC<SB>m</SB>H<SB>n</SB>ガスとH<SB>2</SB>ガスおよび/またはCOガスとを含む原料ガスとO<SB>2</SB>ガスとの部分燃焼反応[1][2][3]により還元ガスを製造する方法において、[11]式に定義する部分燃焼反応の理論温度T<SB>O</SB>が1300°C以上となるように、原料ガス中のC<SB>m</SB>H<SB>n</SB>ガスの種類と混合比を調整し、及び/又はO<SB>2</SB>ガスの純度を調整し、及び/又は原料ガスに対するO<SB>2</SB>ガスの添加量を調整し、及び/又は原料ガスの予熱温度を調整し、及び/又はO<SB>2</SB>ガス予熱温度を調整することを特徴とする還元ガス製造方法ただし、m及びnは正の整数C<SB>m</SB>H<SB>n</SB>ガスの部分燃焼反応C<SB>m</SB>H<SB>n</SB>+m/2・O<SB>2</SB>=m・CO+n/2・H<SB>2</SB> [1]H<SB>2</SB>ガスの部分燃焼反応H<SB>2</SB>+x/2・O<SB>2</SB>=(1-x)・H<SB>2</SB>+x・H<SB>2</SB>O、ここで0<x<1 [2]COガスの部分燃焼反応CO+x/2・O<SB>2</SB>=(1-x)・CO+x・CO<SB>2</SB>、ここで0<x<1 [3]T<SB>O</SB>=(H+Q)/(Cp・V) [11]ここで、H:部分燃焼反応[1][2][3]によって生じる反応熱、Q:原料ガスとO<SB>2</SB>ガスとの顕熱の合計、Cp:生成するガスの比熱、V:生成ガス量

IPC (3)：

C01B 3/36 ,  C01B 31/18 ,  C10K 3/02

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (4)

• 特開昭48-071312
  
• 特開昭56-100102
  
• 特開昭51-054095
  
• 特開昭63-225510