Pat

J-GLOBAL ID：200903041138155190

形状計測装置および形状計測方法

Inventor： 山口 義紀 ,  西川 修 ,  東海 研
Applicant, Patent owner： 富士ゼロックス株式会社
Agent (1)： 平田 忠雄
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1999043410
Publication number (International publication number)：2000241134
Application date： Feb. 22, 1999
Publication date： Sep. 08, 2000
Summary：

【要約】【課題】 物体までの距離計測を高精度の行うことが可能な形状計測装置および形状計測方法を提供する。【解決手段】 半導体レーザ3は、変調信号Sm によって強度変調された照明光4aを出射すると、照明光4aの一部はハーフミラー11で反射し、残りはハーフミラー11を透過して物体6に照射される。透過率制御回路13は、物体6からの反射光4cの光強度とハーフミラー11で反射した参照光4cの光強度とがほぼ等しくなるように第2の液晶シャッタ12Bの透過率を制御する。平面センサ9には、光強度がほぼ等しい反射光4cと参照光4cとの合成光が入射する。距離演算部10は、平面センサ9からの出力信号に基づいて平面センサ9から対象物6の表面上の各点までの距離を2次元的に演算する。

Claim (excerpt)：

所定の周波数で強度変調された照明光を出射する照明光光源を有し、前記照明光を物体に照射して前記物体から反射光を発生させる反射光発生手段と、前記所定の周波数によって強度変調された参照光を出射する参照光出射手段と、前記反射光と前記参照光との合成光を受光してその検出信号を出力する検出手段と、前記反射光の光強度と前記参照光の光強度とが前記検出手段の検出面でほぼ等しくなるように前記反射光発生手段および前記参照光出射手段を制御する制御手段と、前記光強度がほぼ等しい前記反射光と前記参照光との前記合成光を受光した前記検出手段からの検出信号に基づいて前記検出面から前記物体までの距離を演算する演算手段とを備えたことを特徴とする形状計測装置。

F-Term (12)：

2F065AA53 ,  2F065BB05 ,  2F065FF51 ,  2F065GG06 ,  2F065JJ03 ,  2F065JJ26 ,  2F065LL04 ,  2F065LL21 ,  2F065LL30 ,  2F065NN01 ,  2F065NN08 ,  2F065UU07