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J-GLOBAL ID:200903041163211924
タンデム反応器におけるバイモーダルエチレンポリマーの製造方法
Inventor:
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Applicant, Patent owner:
Agent (1):
湯浅 恭三 (外6名)
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1992049908
Publication number (International publication number):1993086122
Application date: Mar. 06, 1992
Publication date: Apr. 06, 1993
Summary:
【要約】 (修正有)【目的】 タンデム反応器中での気相流動床重合によって、相対的に高分子量及び低分子量のポリマー混合物からなるバイモーダルエチレンポリマー組成物を製造する。【構成】 第1気相流動床反応帯域で、過半量のエチレンよりなる気体単量体組成物及び任意に水素と、チーグラー・ナッタ触媒とを、約0.3以下の水素/エチレンのモル比及び約100psia以下のエチレン分圧で接触させて、触媒と会合した相対的に高分子量ポリマーを製造し、この高分子量ポリマーを、水素及び、過半量のエチレンよりなる気体単量体組成物を供給する、H2/C2比が少なくとも約0.9かつ第1反応帯域の少なくとも約8.0倍そしてエチレン分圧が第1反応帯域の少なくとも1.7倍の重合条件の第2気相流動床反応帯域へ送って、高分子量ポリマー/触媒粒子の上及びボイド内に付着した低分子量ポリマーを製造する、バイモーダルエチレンポリマーブレンドの製法。第2反応帯域から得られるバイモーダルポリマーブレンドの高分子量ポリマーの分率が少なくとも約0.35である。
Claim (excerpt):
バイモーダルエチレンポリマーブレンドの製法であって、1) 重合条件下の第1の気相流動床反応器内において、過半量のエチレンよりなる気体単量体組成物及び任意に水素と、主触媒成分としての遷移金属化合物、及び、還元助触媒としての金属水素化物又は有機金属化合物よりなるチグラー・ナッタ又は配位触媒とを、約0.3以下の水素/エチレンモル比(H2/C2比)、及び約100psia以下のエチレン分圧で接触させて、触媒粒子と会合した相対的に高分子量(HMW)のポリマーを製造し;2) HMWポリマー/触媒粒子の上及びボイド内に付着した低分子量(LMW)ポリマーを製造するために、触媒粒子と会合したHMWポリマーを第2の気相流動床反応帯域へ移し、ここで、第2の気相流動床反応帯域へは、水素及び過半量のエチレンよりなるガス状単量体組成物を供給するが、触媒の遷移金属成分は加えず、少なくとも約0.9のH2/C2比且つ少なくとも第1反応帯域における約8.0倍のH2/C2比、及び少なくとも第1反応帯域における1.7倍のエチレン分圧の重合条件下で重合し、第2反応帯域から得られるバイモーダルポリマーブレンドは少なくとも約0.35のHMWポリマー分率を有する、上記の製法。
IPC (2):
C08F 10/02
, C08F 10/02 MSU
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (2)
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特開昭64-036607
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特開昭58-001708
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