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J-GLOBAL ID：200903041174583416

投影露光装置の焦点合わせ装置

Inventor： 小貫 勝則 ,  池上 透 ,  小室 修
Applicant, Patent owner： 株式会社日立製作所
Agent (1)： 小川 勝男
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1992247607
Publication number (International publication number)：1994097036
Application date： Sep. 17, 1992
Publication date： Apr. 08, 1994
Summary：

【要約】【目的】本発明は、最適露光焦点位置(合焦点位置)を求めるための先行評価作業を無くし、LSI製造における高スループット化と最適露光焦点位置(合焦点位置)を高精度に求めるための投影露光装置の焦点合わせ装置を提供することを目的とする。【構成】可動テーブルを投影光学系の光軸方向にステップ移動あるいは連続移動し、移動に同期してスリットパターンを透過する光を光検出器により光量検出し、その最大光量位置を検出すことにより合焦点位置を検出,補正する投影露光装置の焦点合わせ装置。

Claim (excerpt)：

マスク上にある回路パターンをウェハ上に投影露光する投影露光装置において、マスク上にテストパターンを配置し上記テストパターン像を投影光学系を通してウェハを搭載する可動テーブル上に設けたプレート上に結像し、上記可動テーブルを移動して上記プレートに設けたテストパターン像と光学的に等価なスリットパターンを透過する光を光検出器により検出するようにした投影露光装置の焦点合わせ装置において、上記可動テーブルを上記投影光学系の光軸方向にステップ移動あるいは連続移動し、移動に同期して上記スリットパターンを透過する光を上記光検出器により光量検出し、その最大光量位置を検出することにより合焦点位置を検出,補正することを特徴とする投影露光装置の焦点合わせ装置。