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J-GLOBAL ID:200903041177678850

排ガス浄化システム

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 渡邉 一平
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1995257630
Publication number (International publication number):1997099217
Application date: Oct. 04, 1995
Publication date: Apr. 15, 1997
Summary:
【要約】【課題】 排ガス中の有害物質、特にコールドスタート時に多量に発生するHC等を効果的に浄化できる排ガス浄化システムを提供する。【解決手段】 内燃機関の排気管内に、排ガス中の炭化水素等の有害成分を吸着し得る吸着体と、排ガス中の有害成分を低減せしめる触媒成分を含む触媒体とが、それぞれ少なくとも1つずつインライン上に配設されており、内燃機関のコールドスタート時に発生する排ガス中の炭化水素等を吸着体に吸着し、吸着体の排ガスによる温度上昇にともなって吸着体から脱離した炭化水素等を触媒体上で燃焼せしめる排ガス浄化システムにおいて、吸着体中にSiO2/Al2O3比が100以上のH型β-ゼオライトを含み、内燃機関からの750°C以上の排ガスにさらされても吸着体が良好な吸脱着特性を維持することができることを特徴とする排ガス浄化システム。
Claim (excerpt):
内燃機関の排気管内に、排ガス中の炭化水素等の有害成分を吸着し得る吸着体と、排ガス中の有害成分を低減せしめる触媒成分を含む触媒体とが、それぞれ少なくとも1つずつインライン上に配設されており、内燃機関のコールドスタート時に発生する排ガス中の炭化水素等を吸着体に吸着し、吸着体の排ガスによる温度上昇にともなって吸着体から脱離した炭化水素等を触媒体上で燃焼せしめる排ガス浄化システムにおいて、吸着体中にSiO2/Al2O3比が100以上のH型β-ゼオライトを含み、内燃機関からの750°C以上の排ガスにさらされても吸着体が良好な吸脱着特性を維持することができることを特徴とする排ガス浄化システム。
IPC (6):
B01D 53/86 ZAB ,  B01D 53/04 ZAB ,  B01D 53/94 ,  B01J 20/18 ,  B01J 29/068 ,  B01J 29/44
FI (6):
B01D 53/36 ZAB ,  B01D 53/04 ZAB Z ,  B01J 20/18 B ,  B01J 29/068 A ,  B01J 29/44 A ,  B01D 53/36 104 Z
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (2)

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