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J-GLOBAL ID：200903041192615406

化粧料

Inventor： 長谷 昇 ,  徳永 忠之
Applicant, Patent owner： 花王株式会社
Agent (1)： 有賀 三幸 (外2名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1991205915
Publication number (International publication number)：1993043420
Application date： Aug. 16, 1991
Publication date： Feb. 23, 1993
Summary：

【要約】【構成】 ポリメチルシルセスキオキサン粉末、及び疎水化処理粉体を含有する化粧料。【効果】 肌への密着性が良好で、化粧くずれが少なく、かつ感触良好な化粧料を得る。

Claim (excerpt)：

次の成分(A)及び(B)を含有することを特徴とする化粧料。(A)ポリメチルシルセスキオキサン粉末(B)疎水化処理粉体

IPC (2)：

A61K 7/02 ,  A61K 7/00

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (3)

• 特開昭63-297313
  
• 特開平1-268615
  
• 特開平1-261316