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J-GLOBAL ID：200903041203488088

プラズマ装置

Inventor： 長田 厚
Applicant, Patent owner： エム・シー・エレクトロニクス株式会社
Agent (1)： 岡田 数彦
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1997367651
Publication number (International publication number)：1999195689
Application date： Dec. 26, 1997
Publication date： Jul. 21, 1999
Summary：

【要約】【課題】 装置内における処理の停滞を低減し且つウェーハの搬送効率を高め得るプラズマ装置を提供する。【解決手段】 ウェーハにプラズマ処理を施すプラズマ装置であり、キャリアを保持する供給ステージ(2)、ウェーハを一時的に貯留するバッファ装置(4)、ウェーハをプラズマ処理する反応容器(6)、供給ステージ(2)とバッファ装置(4)の間の第1の搬送アーム(3)、バッファ装置(4)と反応容器(6)の間の第2の搬送アーム(5)を備えている。バッファ装置(4)は、それぞれにウェーハを収容する一対のボートユニット(41)をこれらの中間に位置する垂直軸周りに旋回可能に配置して成り、そして、バッファ装置(4)の一方のボートユニット(41)、第2の搬送アーム(5)及び反応容器(6)の少なくとも装填口は、減圧可能なロードロックチャンバー(7)に収容される。

Claim (excerpt)：

ウェーハにプラズマ処理を施すプラズマ装置であって、ウェーハが収容されたキャリアを保持する供給ステージと、装置内で搬送されるウェーハを一時的に貯留するバッファ装置と、気密可能な装填口から装填されたウェーハをプラズマによって処理する減圧可能な反応容器と、前記供給ステージと前記バッファ装置の間でウェーハを搬送する第1の搬送アームと、前記バッファ装置と前記反応容器の間でウェーハを搬送する第2の搬送アームとを備え、前記バッファ装置は、それぞれにウェーハを収容する一対のボートユニットを水平に配置し且つ前記各ボートユニットをこれらの中間に位置する垂直軸周りに旋回可能に構成して成り、しかも、前記バッファ装置の一方のボートユニット、前記第2の搬送アーム及び前記反応容器の少なくとも前記装填口は、減圧可能なロードロックチャンバーに収容されていることを特徴とするプラズマ装置。

IPC (7)：

H01L 21/68 ,  C23C 16/44 ,  C23F 4/00 ,  H01L 21/205 ,  H01L 21/3065 ,  H01L 21/31 ,  H05H 1/46

FI (7)：

H01L 21/68 A ,  C23C 16/44 F ,  C23F 4/00 A ,  H01L 21/205 ,  H01L 21/31 C ,  H05H 1/46 A ,  H01L 21/302 B