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J-GLOBAL ID:200903041211954225

チューブ状炭素物質の製造装置、製造設備及びカーボンナノチューブの製造方法

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 北村 修一郎
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2002088625
Publication number (International publication number):2003286015
Application date: Mar. 27, 2002
Publication date: Oct. 07, 2003
Summary:
【要約】【課題】 チューブ状炭素物質を比較的高い割合で安定して製造することができるチューブ状炭素物質の製造装置を得る。【解決手段】 チューブ状炭素物質より大きな比重且つ粒径の流動媒体8が加熱状態で流動する流動層を内部に形成する流動層反応器を備え、触媒となる第二物質s2を流動層5内に導入する第二物質導入機構9を備えるとともに、流動層5内に形成される第二物質s2の移流部に、第一物質s1を導入する第一物質導入機構6を備える。
Claim (excerpt):
炭素を含有し加熱状態で分解される第一物質と、チューブ状炭素物質の生成に触媒もしくは副原料となる第二物質とを使用して、炭素原子がチューブ状に配列したチューブ状炭素物質を加熱雰囲気中で製造する製造装置であって、前記チューブ状炭素物質より大きな比重且つ粒径の流動媒体が加熱状態で流動する流動層を内部に形成する流動層反応器を備え、前記第二物質を前記流動層内に導入する第二物質導入機構を備えるとともに、前記流動層内に形成される第二物質の移流部に、前記第一物質を導入する第一物質導入機構を備えたチューブ状炭素物質の製造装置。
F-Term (13):
4G146AA11 ,  4G146AA16 ,  4G146BA12 ,  4G146BA14 ,  4G146BA15 ,  4G146BC41 ,  4G146BC44 ,  4G146DA03 ,  4G146DA25 ,  4G146DA27 ,  4G146DA40 ,  4G146DA47 ,  4G146DA50
Patent cited by the Patent:
Cited by applicant (1) Cited by examiner (1)
Article cited by the Patent:
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