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J-GLOBAL ID：200903041255011174

ブラックマトリックスパターンの形成方法

Inventor： 山岸 剛 ,  立薗 信一 ,  白髭 稔
Applicant, Patent owner： 日立粉末冶金株式会社
Agent (1)： 前島 肇
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1995308152
Publication number (International publication number)：1997127675
Application date： Oct. 31, 1995
Publication date： May. 16, 1997
Summary：

【要約】【課題】 薄い膜厚で高い遮光性を有し、かつ塗膜強度の大きいブラックマトリックスを、環境問題を発生させずに形成する方法を提供する。【解決手段】 レジストパターン5を施した透明基板1のレジスト膜の上に、遮光膜形成用塗料を塗布乾燥して塗膜6を形成した後、塗膜6をレジストパターンが出現するまで研磨し、その後レジストパターン5を取り除くことを特徴とするブラックマトリックスパターン7の形成方法。

Claim (excerpt)：

レジストパターンを施した透明基板のレジスト膜の上に、遮光膜形成用塗料を塗布乾燥して塗膜を形成した後、該塗膜をレジストパターンが出現するまで研磨し、その後レジストパターンを除去することを特徴とするブラックマトリックスパターンの形成方法。

IPC (2)：

G03F 1/00 ,  G02F 1/1335 500

FI (2)：

G03F 1/00 Z ,  G02F 1/1335 500