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J-GLOBAL ID:200903041261105474

パターンマッチングによる位置推定方法

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 諸石 光▲ひろ▼ (外1名)
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1991322943
Publication number (International publication number):1993159056
Application date: Dec. 06, 1991
Publication date: Jun. 25, 1993
Summary:
【要約】【目的】 精度の高いパターンマッチングによる位置推定の方法を提供することを目的とする。【構成】 観測画像およびリファレンスパターンをフーリエ変換し、その振幅項を除いた位相項のみを用いてマッチドフィルタリングにて相関像を求め、そのピーク位置からパターンの位置を推定することを特徴とする。
Claim (excerpt):
観測画像およびリファレンスパターンをフーリエ変換し、その振幅項を除いた位相項のみを用いてマッチドフィルタリングにて相関像を求め、そのピーク位置からパターンの位置を推定することを特徴とするパターンマッチングによる位置推定方法。
IPC (3):
G06F 15/70 350 ,  G06F 15/70 330 ,  G06K 9/62
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (2)
  • 特開平2-100589
  • 特開平2-065407

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