Pat
J-GLOBAL ID:200903041270561148

遮光性薄膜形成組成物

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 志賀 正武 (外2名)
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1992093174
Publication number (International publication number):1993289336
Application date: Apr. 13, 1992
Publication date: Nov. 05, 1993
Summary:
【要約】【目的】 電気抵抗が高く、環境汚染性が低く、十分に黒色であり、しかも耐熱性も高い遮光性薄膜を形成し得る組成物を提供する。【構成】 背面露光法に用いられる遮光性薄膜形成組成物であって、ネガ型レジスト30〜80重量部に対し硫化ビスマスを70〜20重量部配合してなる遮光性薄膜組成物。
Claim (excerpt):
背面露光法に用いられる遮光性薄膜形成組成物であって、ネガ型レジスト30〜80重量部に対し硫化ビスマスを70〜20重量部配合してなることを特徴とする遮光性薄膜形成組成物。
IPC (7):
G03F 7/038 ,  C01G 29/00 ,  C09K 3/00 ,  G02B 5/20 101 ,  G03F 7/004 505 ,  G03F 7/004 511 ,  G03F 7/004 521

Return to Previous Page