Pat
J-GLOBAL ID:200903041332140705

半導体製造管理用カセット、その製造方法及び半導体製造設備

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 小堀 益
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1996176758
Publication number (International publication number):1997036214
Application date: Jul. 05, 1996
Publication date: Feb. 07, 1997
Summary:
【要約】【課題】 ウェーハカセット、その製造方法及び半導体製造設備を提供する。【解決手段】 ウェーハを入れる容器50と、容器50の少なくとも一つの外部側壁に突出しているバーコード用ウィング60と、バーコード用ウィング60に形成されているバーコード65とを具備する。カセットのバーコード65を認識するためのバーコードリーダは半導体素子の製造のための設備のローダ/アンローダ部の表面の下に取り付けられている。従って、効率よく設備のローダ/アンローダ部にカセットをローディング/アンローディングし、ウェーハの損傷を減らすことができ、半導体素子の生産性を向上させ得る。
Claim (excerpt):
ウェーハを入れる容器と、前記容器の少なくとも一つの外部側壁に突出しているバーコード用ウィングと、前記バーコード用ウィングに形成されているバーコードとを具備することを特徴とする半導体製造管理用カセット。
IPC (2):
H01L 21/68 ,  B65D 85/86
FI (2):
H01L 21/68 T ,  B65D 85/38 R
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (3)
  • 特開平2-222558
  • プローバ
    Gazette classification:公開公報   Application number:特願平4-039988   Applicant:日本電気株式会社
  • 成形システム
    Gazette classification:公開公報   Application number:特願平3-234606   Applicant:積水化学工業株式会社

Return to Previous Page