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J-GLOBAL ID:200903041332140705
半導体製造管理用カセット、その製造方法及び半導体製造設備
Inventor:
,
Applicant, Patent owner:
Agent (1):
小堀 益
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1996176758
Publication number (International publication number):1997036214
Application date: Jul. 05, 1996
Publication date: Feb. 07, 1997
Summary:
【要約】【課題】 ウェーハカセット、その製造方法及び半導体製造設備を提供する。【解決手段】 ウェーハを入れる容器50と、容器50の少なくとも一つの外部側壁に突出しているバーコード用ウィング60と、バーコード用ウィング60に形成されているバーコード65とを具備する。カセットのバーコード65を認識するためのバーコードリーダは半導体素子の製造のための設備のローダ/アンローダ部の表面の下に取り付けられている。従って、効率よく設備のローダ/アンローダ部にカセットをローディング/アンローディングし、ウェーハの損傷を減らすことができ、半導体素子の生産性を向上させ得る。
Claim (excerpt):
ウェーハを入れる容器と、前記容器の少なくとも一つの外部側壁に突出しているバーコード用ウィングと、前記バーコード用ウィングに形成されているバーコードとを具備することを特徴とする半導体製造管理用カセット。
IPC (2):
FI (2):
H01L 21/68 T
, B65D 85/38 R
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (3)
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特開平2-222558
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プローバ
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平4-039988
Applicant:日本電気株式会社
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成形システム
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平3-234606
Applicant:積水化学工業株式会社
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