照度むら検出用パターンを有するマスク

Inventor：
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：煤孫耕郎
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1995139893
Publication number (International publication number)：1996314118
Application date： May. 15, 1995
Publication date： Nov. 29, 1996
Summary：

【要約】【目的】スキャン露光中に突発的に発生する照度むらを観測し、製品の良品率を向上させる。【構成】パターンの形成されたマスクと感光性基板を走査することにより、スリット状の照明領域よりも広い面積のマスク上のパターンを感光基板上に露光する場合に用いるマスクで、スキャン露光用マスク(1)のスキャン方向に沿って10μm幅の照度むら検出用パターン領域(3)が設けられている。この照度むら検出用パターン領域(3)は主パターンの配置を妨げないようにマスクの端部に位置している。

Claim (excerpt)：

パターンの形成されたマスクと感光性基板を走査することにより、照明領域よりも広い面積の前記マスク上のパターンを前記感光基板上に露光する方法に用いるマスクであって、走査方向に沿った主パターン外の上端或いは下端に照度むら検査用のパターンを有することを特徴とする照度むら検出用パターンを有するマスク。

IPC (2)：

G03F 1/08 , H01L 21/027

FI (5)：

G03F 1/08 P , H01L 21/30 502 P , H01L 21/30 502 V , H01L 21/30 515 F , H01L 21/30 529

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (3)

特開昭58-193545
特開平2-308518
結像特性計測方法及び該方法で使用されるマスク
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平4-264659 Applicant：株式会社ニコン

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