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J-GLOBAL ID:200903041341813003

ガスの分離精製方法及びその装置

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 木戸 一彦
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2000320544
Publication number (International publication number):2002126435
Application date: Oct. 20, 2000
Publication date: May. 08, 2002
Summary:
【要約】【課題】 半導体製造装置等の雰囲気ガスとして使用されるクリプトンやキセノン等の高付加価値ガスをPSAプロセスによって効率よく回収できるガスの分離精製方法及びその装置を提供する。【解決手段】 高付加価値ガスを含む混合ガスを原料ガスとして前記高付加価値ガスを圧力変動吸着分離法により分離精製する方法において、前記圧力変動吸着分離法として、平衡吸着量差に基づいてガス成分を分離する平衡型圧力変動吸着分離法と、吸着速度差に基づいてガス成分を分離する速度型圧力変動吸着分離法とを組合わせることにより、前記高付加価値ガスを分離精製する。
Claim (excerpt):
高付加価値ガスを含む混合ガスを原料ガスとして前記高付加価値ガスを圧力変動吸着分離法により分離精製する方法において、前記圧力変動吸着分離法として、平衡吸着量差に基づいてガス成分を分離する平衡型圧力変動吸着分離法と、吸着速度差に基づいてガス成分を分離する速度型圧力変動吸着分離法とを組合わせることにより、前記高付加価値ガスを分離精製することを特徴とするガスの分離精製方法。
IPC (2):
B01D 53/04 ,  C01B 23/00
FI (2):
B01D 53/04 B ,  C01B 23/00 P
F-Term (8):
4D012CA20 ,  4D012CB16 ,  4D012CD07 ,  4D012CG01 ,  4D012CH03 ,  4D012CJ01 ,  4D012CJ02 ,  4D012CK10
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (3)

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