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J-GLOBAL ID：200903041348814129

めっき装置

Inventor：
栗山 文夫

About 栗山 文夫

, 
上山 浩幸

About 上山 浩幸

, 
山川 純逸

About 山川 純逸


Applicant, Patent owner：
株式会社荏原製作所

About 株式会社荏原製作所


Agent (1)： 熊谷 隆 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1998342611
Publication number (International publication number)：2000160399
Application date： Dec. 02, 1998
Publication date： Jun. 13, 2000
Summary：
【要約】 (修正有)【課題】 めっき装置に洗浄水処理機能及びめっき廃液再生機能、めっき液及びめっき液を含む液の処理について自己完結的な専用処理機能を持たせためっき装置を提供する。【解決手段】 めっき部1はめっき液1-1を収容すると共に陽極電極1-3と陰極としての被めっき基板1-4を対向して配置しめっきを行なうためのめっき槽1-2、被めっき基板1-4をめっき後に洗浄する洗浄装置1-6を具備し、管理部2はめっき液1-1の成分及び/又は濃度を調整する調整槽2-1、めっき液2-8及び添加剤2-7を注入する補充機構、めっき液1-1の成分分析又は/及び濃度測定をする分析装置2-6、洗浄液中に含まれる金属イオンを取り除く金属イオン採取器2-5、めっき液の老かい物の除去及び金属イオン濃度や水素イオン指数等を調整するめっき液再生装置2-4を具備する。
Claim (excerpt)：
被めっき体にめっき行なう部と、めっき液及びめっき液を含む液の調整等を行なう管理部とからなるめっき装置において、前記めっき部はめっき液を収容すると共に、陽極電極と陰極としての前記被めっき体を対向して配置しめっきを行なうめっき槽、前記被めっき体をめっき後に洗浄する洗浄装置を具備し、前記管理部はめっき液の成分及び/又は濃度を調整する調整槽、該調整槽にめっき液及び補充剤を注入する補充機構、該調整槽のめっき液の一部を抽出して該めっき液の成分分析又は/及び濃度測定をする分析装置、前記洗浄装置で前記被めっき体を洗浄した洗浄液中に含まれる金属イオンを取り除くか又は金属イオンを取り除いた洗浄液を再生する装置、前記調整槽のめっき液を抽出して該めっき液の老かい物の除去及び金属イオン濃度や水素イオン指数等を調整するめっき液再生装置を具備し、前記めっき部は第1の部屋に設置し、前記管理部は第2の部屋に設置したことを特徴とするめっき装置。
IPC (5)：
C25D 21/14 ,  C25D 7/12 ,  C25D 17/00 ,  C25D 21/18 ,  H01L 21/288
FI (5)：
C25D 21/14 B ,  C25D 7/12 ,  C25D 17/00 C ,  C25D 21/18 H ,  H01L 21/288 E
F-Term (11)：
4K024BB12 ,  4K024CA01 ,  4K024CA03 ,  4K024CB01 ,  4K024CB11 ,  4K024CB19 ,  4K024CB24 ,  4K024CB26 ,  4K024GA16 ,  4M104BB04 ,  4M104DD52
Patent cited by the Patent：
Cited by examiner (17)
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