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J-GLOBAL ID：200903041353774305

レジスト組成物

Inventor： 松野 修吾 ,  阿部 信紀 ,  和田 泰昌
Applicant, Patent owner： 日本ゼオン株式会社
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1994261054
Publication number (International publication number)：1996101509
Application date： Sep. 30, 1994
Publication date： Apr. 16, 1996
Summary：

【要約】【目的】 新規な感放射線性レジスト組成物を提供する。【構成】 (置換可)アクリル酸の1-アルキルシクロアルキルエステル単位のほかに、他の(置換可)アクリル酸エステル単位や置換可スチレン単位を有する重合体と活性化放射線の照射により酸を発生する放射線感応性成分を含むことを特徴とするレジスト組成物。

Claim (excerpt)：

一般式(1)、(2)および(3)【化1】【化2】【化3】(式(1)〜(3)中、R<SP>1</SP>〜R<SP>3</SP>はそれぞれ独立に水素原子、炭素数1〜4の置換可アルキル基、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基であり、R<SP>4</SP>は直鎖、分岐または環状の炭素数1〜8の置換可アルキル基、置換可アルケニル基であり、R<SP>5</SP>とR<SP>6</SP>はそれぞれ独立して水素原子、ハロゲン原子、ニトロ基、シアノ基、水酸基、カルボキシル基、直鎖、分岐または環状の炭素数1〜8の置換可アルキル基、直鎖、分岐または環状の炭素数1〜8の置換可アルコキシ基、炭素数6〜12の置換可アリール基、炭素数7〜14の置換可アラルキル基であり、R<SP>7</SP>は直鎖、分岐または環状の炭素数1〜8の置換可アルキル基、直鎖、分岐または環状の炭素数1〜8の置換可アルケニル基である。R<SP>8</SP>〜R<SP>11</SP>は、水素原子、ハロゲン原子、炭素数1〜4の置換可アルキル基であり、少なくとも一つは水素原子である。Aは単結合または二価の置換可有機基である。式(1)、(2)、(3)で表される単位の比率はそれぞれk、m、nで表され、k+m+n=1であり、0<k≦1、0≦m<1、0≦n<1である。)で表される構成単位を有する重合体と活性化放射線の照射により酸を発生する放射線感応性成分を含むことを特徴とするレジスト組成物。

IPC (4)：

G03F 7/039 501 ,  G03F 7/004 501 ,  G03F 7/004 503 ,  H01L 21/027

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (1)

• パターン形成材料
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平3-275149   Applicant：三菱電機株式会社