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J-GLOBAL ID：200903041386730311

反応装置

Inventor： 池田 光明
Applicant, Patent owner： リックス株式会社 ,  科学技術振興事業団
Agent (2)： 今村 定昭 (外4名) ,  綾田 正道
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1997070603
Publication number (International publication number)：1998244147
Application date： Mar. 06, 1997
Publication date： Sep. 14, 1998
Summary：

【要約】【課題】 反応過程を把握しながら温度、圧力、密度を任意に制御可能とし、精度の高い反応を効率よく得る技術の提供。【解決手段】 増圧器38による外部圧力媒体の圧力で作動する有底円筒状じゃばら14によって密封容器1内に反応空間16を画成すると共に、その可動部の位置を検知するセンサ25と、反応空間の温度を測定するセンサ23と反応空間を温度調節する電気炉2と、反応空間に原料を供給する供給回路3の増圧器27を備え、シール材20に冷却手段21を設けた構成。

Claim (excerpt)：

気体、液体、粉体、固体、スラリー、またはエマルジョン、あるいはそれらの混合物である原料を投入し分解、合成、溶解、析出、または結晶成長させることを目的とした反応装置であって、密封容器内で容積を可変に形成された反応空間と、該反応空間の容積変動操作を行なって該反応空間の密度を制御する外部駆動手段と、前記反応空間容積の検知手段と、を備えたことを特徴とする反応装置。

IPC (4)：

B01J 19/00 ,  B01J 3/00 ,  A62D 3/00 ZAB ,  C07B 61/00

FI (4)：

B01J 19/00 J ,  B01J 3/00 A ,  A62D 3/00 ZAB ,  C07B 61/00 Z