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J-GLOBAL ID：200903041402868698

ポジ型耐熱性感光性重合体組成物及びレリーフパターンの製造法

Inventor： 布村 昌隆 ,  内村 俊一郎 ,  三輪 嵩夫
Applicant, Patent owner： 日立化成工業株式会社
Agent (1)： 若林 邦彦
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1996167464
Publication number (International publication number)：1998010717
Application date： Jun. 27, 1996
Publication date： Jan. 16, 1998
Summary：

【要約】 (修正有)【課題】 感度が高く、現像時間が短く、形成されたパターンの耐熱性が高い組成物及びこの組成物を用いたレリーフパターンの製造法を提供する。【解決手段】 (a)一般式(I)(式中、R1は炭素数が2以上である4価の有機基、R2は1個以上のカルボキシル基、このカルボキシル基炭素を除く炭素数が2以上である2価の有機基、R3は芳香環を含む3価の有機基、R4は炭素数2以上の2価の有機基、R5は炭素数1以上の有機基、R6は-SO2-または-CO-を示し、l、m、nの比率は、lが20〜90%、mが0.5〜15%、nが0〜79.5%である)で表されるポリマー、(b)o-キノンジアジド化合物を含有してなる耐熱性感光性重合体組成物及びこの耐熱性感光性重合体組成物を支持基板上に塗布、乾燥後、露光、現像し、加熱処理するレリーフパターンの製造法。

Claim (excerpt)：

(a)一般式(I)【化1】(式中、R1は炭素数が2以上である4価の有機基を示し、R2は1個以上のカルボキシル基を有し、このカルボキシル基炭素を除く炭素数が2以上である2価の有機基を示し、R3は芳香環を含む3価の有機基を示し、R4は炭素数2以上の2価の有機基を示し、R5は炭素数1以上の有機基を示し、R6は-SO2-または-CO-を示し、R3に結合している2個のイミノ基のうち1個のイミノ基と-R6-NH2とは互いにオルト位に位置し、R1に結合している各COOR5はアミド結合が結合している各炭素原子に対してオルト位に結合しており、l、m、nの比率は、lが20〜90%、mが0.5〜15%、nが0〜79.5%である)で表されるポリマー、(b)o-キノンジアジド化合物を含有してなる耐熱性感光性重合体組成物。

IPC (7)：

G03F 7/022 ,  C08G 73/10 NTF ,  G03F 7/037 501 ,  G03F 7/039 ,  G03F 7/30 ,  H01L 21/027 ,  H01L 21/312

FI (7)：

G03F 7/022 ,  C08G 73/10 NTF ,  G03F 7/037 501 ,  G03F 7/039 ,  G03F 7/30 ,  H01L 21/312 B ,  H01L 21/30 502 R