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J-GLOBAL ID：200903041415826889
連続真空蒸着装置
Inventor：
,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：
堀田 実 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1993003800
Publication number (International publication number)：1994212424
Application date： Jan. 13, 1993
Publication date： Aug. 02, 1994
Summary：
【要約】【目的】 真空チャンバー内の各部分の磁界の強さの違いの影響が少なく、電子銃出力の効率向上及び蒸発速度の向上によりランニングコストの低減、生産性のアップが可能な連続真空蒸着装置を提供する。【構成】 真空中で電子銃3によりルツボ6から蒸発材料5を蒸発させ、連続的に供給される帯状基板9の表面に蒸着膜を形成させる連続真空蒸着装置において、ルツボは各々独立した複数の分割ルツボ10からなり、分割ルツボは各々独立に上下方向に高さ調整でき、かつ帯状基板の移動方向に水平移動できるように構成されている。
Claim (excerpt)：
真空中で電子銃によりルツボから蒸発材料を蒸発させ、連続的に供給される帯状基板の表面に蒸着膜を形成させる連続真空蒸着装置において、前記ルツボは各々独立した複数の分割ルツボからなり、該分割ルツボは各々独立に上下方向に高さ調整でき、かつ帯状基板の移動方向に水平移動できるように構成されている、ことを特徴とする連続真空蒸着装置。
Patent cited by the Patent：
Cited by examiner (6)
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