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J-GLOBAL ID：200903041441513279

ECRプロセス装置

Inventor： 宮国 晋一
Applicant, Patent owner： 三菱電機株式会社
Agent (1)： 早瀬 憲一
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1995154798
Publication number (International publication number)：1997007795
Application date： Jun. 21, 1995
Publication date： Jan. 10, 1997
Summary：

【要約】【目的】 低ガス圧力,低マイクロ波電力条件下における放電の初期点火を確実に行うことができるECRプロセス装置を提供する。【構成】 試料3を配置したプロセスチャンバー1と、試料3を処理するためのプラズマを発生するECR共鳴領域6と、ECR共鳴領域6に電子電流を供給するための電子発生装置7とを備えたECRプロセス装置において、マイクロ波の周波数の1周期間の上記電子電流をi,素電荷をe,ガス中での電子の平均自由工程をλ,電子とガス分子との反応距離をΔL,マイクロ波の周波数の周期をτとしたとき、式:i=(eλ/ΔL)/τに基づき算出した電子電流値を、放電の初期点火時にECR共鳴領域6に供給する電子電流の下限値として運転を行うようにした。

Claim (excerpt)：

試料を配置し,かつガスが導入されるプロセスチャンバーと、該プロセスチャンバー内に上記試料との間の間隔を変化可能に形成され,その領域で電子サイクロトロン共鳴を利用したマイクロ波の放電により上記ガスとともに上記試料を処理するためのプラズマを発生するECR共鳴領域と、上記プロセスチャンバー内に設置された,上記ECR共鳴領域に電子電流を供給するための電子発生装置とを備えたECRプロセス装置において、上記マイクロ波の周波数の1周期の間の上記電子電流をi,素電荷をe,上記ガス中での電子の平均自由工程をλ,該電子とガス分子との反応距離をΔL,上記マイクロ波の周波数の周期をτとしたとき、式:i=(eλ/ΔL)/τに基づき算出した電子電流値を、上記放電の初期点火時に上記ECR共鳴領域に供給する上記電子電流の下限値として運転を行うことを特徴とするECRプロセス装置。

IPC (5)：

H05H 1/46 ,  C23C 16/50 ,  H01L 21/205 ,  H01L 21/302 ,  H01L 21/31

FI (5)：

H05H 1/46 C ,  C23C 16/50 ,  H01L 21/205 ,  H01L 21/31 C ,  H01L 21/302