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J-GLOBAL ID：200903041445495046

プラズマ処理方法及びプロセスプラズマ装置

Inventor： 滝 薫
Applicant, Patent owner： 株式会社東芝
Agent (1)： 鈴江 武彦 (外6名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1997149166
Publication number (International publication number)：1998340891
Application date： Jun. 06, 1997
Publication date： Dec. 22, 1998
Summary：

【要約】【課題】本発明は、温度上昇によるマイクロ波透過窓の割れを防止し、被処理物の温度上昇を抑えて連続的にプロセス処理を行う。【解決手段】気密容器1を大気開放せずに被処理物9を気密容器1内に搬送し、複数の被処理物9に対するプロセス処理を間欠かつ連続的に行う場合、プロセス処理の停止時に、原料ガス3を気密容器1内に供給する噴出ノズル2から冷却用ガス20を気密容器1内に噴出する。

Claim (excerpt)：

気密容器内に原料ガスを供給するとともにマイクロ波を導入してプラズマを発生し、このプラズマにより生成される活性種により被処理物をプロセス処理するプラズマ処理方法において、前記プロセス処理の停止時に、前記気密容器内に内部温度の冷却用ガスを供給することを特徴とするプラズマ処理方法。

IPC (4)：

H01L 21/3065 ,  C23C 14/00 ,  C23F 4/00 ,  H01L 21/027

FI (4)：

H01L 21/302 H ,  C23C 14/00 ,  C23F 4/00 D ,  H01L 21/30 572 A