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J-GLOBAL ID：200903041471995138

水素透過膜及びその作製方法

Inventor： 関 務
Applicant, Patent owner： 東京瓦斯株式会社
Agent (1)： 加茂 裕邦
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1998103695
Publication number (International publication number)：1999286785
Application date： Mar. 31, 1998
Publication date： Oct. 19, 1999
Summary：

【要約】【課題】多孔質支持体に対してピンホールのない緻密なPd合金膜を形成してなる水素透過膜を得る。【解決手段】多孔質支持体の表面にPd合金膜を有する水素透過膜であって、該Pd合金膜が、該多孔質支持体の表面に対して無電解メッキ法又はイオンプレーティング法によりPd金属と該Pdと合金化する金属とをその最上層がPd層となるように交互に多層化層とした後、熱処理して形成されたPd合金膜であることを特徴とする水素透過膜及びその作製方法。

Claim (excerpt)：

多孔質支持体の表面にPd合金膜を有する水素透過膜であって、該Pd合金膜が、該多孔質支持体の表面に対して無電解メッキ法によりPd金属と該Pdと合金化する金属とをその最上層がPd層となるように交互に多層化層とした後、熱処理して形成されたPd合金膜であることを特徴とする水素透過膜。

IPC (5)：

C23C 18/44 ,  B01D 71/02 500 ,  C01B 3/56 ,  C23C 14/14 ,  C23C 18/52

FI (5)：

C23C 18/44 ,  B01D 71/02 500 ,  C01B 3/56 Z ,  C23C 14/14 G ,  C23C 18/52 B