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J-GLOBAL ID：200903041476042198

光分解用触媒及びその製造方法

Inventor： 佐藤 次雄 ,  奥脇 昭嗣 ,  吉田 清英
Applicant, Patent owner： 株式会社リケン
Agent (1)： 高石 橘馬
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1994321681
Publication number (International publication number)：1996155309
Application date： Nov. 30, 1994
Publication date： Jun. 18, 1996
Summary：

【要約】【目的】 超微粒子化してもハンドギャップがほとんど上昇せず、太陽光で効率的に作用する光分解用触媒及びそれを製造する方法を提供する。【構成】 太陽光により励起される金属酸化物半導体を陽イオン交換性層状化合物又は陰イオン交換性層状化合物に包接してなる光分解用触媒である。

Claim (excerpt)：

太陽光により励起される半導体を陽イオン交換性層状化合物又は陰イオン交換性層状化合物に包接してなる光分解用触媒において、前記半導体は金属酸化物であることを特徴とする。

IPC (7)：

B01J 35/02 ,  B01J 21/06 ,  B01J 23/20 ,  B01J 31/08 ,  B01J 37/30 ,  C01B 3/04 ,  H01L 31/00