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J-GLOBAL ID：200903041477307250

干渉計測システム

Inventor：
ジョセフ ディー トバイアソン

About ジョセフ ディー トバイアソン

, 
デイビッド ダブリュー セスコ

About デイビッド ダブリュー セスコ


Applicant, Patent owner：
株式会社ミツトヨ

About 株式会社ミツトヨ


Agent (2)： 荒船 博司 ,  荒船 良男
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2006206305
Publication number (International publication number)：2007040994
Application date： Jul. 28, 2006
Publication date： Feb. 15, 2007
Summary：
【課題】絶対距離測定の誤差を低減または除去させることができる干渉計測定システムを提供する。【解決手段】レーザ干渉計に基づく絶対的距離測定装置は、低、中、高解像度の測定技術を組み合わせて、サンプル表面までの絶対的距離を高解像度で求めることができる。前記装置は、少なくとも2つのレーザ波長を同時に提供して、動誤差成分を含めて、特定の共通モード誤差成分の低減や除去を可能とする。前記装置は、比較的狭い領域にわたって、レーザ波長の少なくとも1つを走査することができ、直交検出器を使用して、特定の自己補正を、結果として生じる走査信号および測定について行うことを可能とするのに十分な信号データを提供する。【選択図】図1
Claim (excerpt)：
所望する第1の波長に調整した光を出力可能な第1のレーザと、 前記第1の波長と異なる第2の波長の光を出力可能な第2のレーザと、 前記第1のレーザから出力される光と、前記第2のレーザから出力される光とを合成して2つの光に分割する光カプラと、 前記光カプラにより分割された一の光を第1の参照ミラーと第2の参照ミラーとによって干渉させた干渉ビームから、前記第1の波長及び前記第2の波長の光を取り出して検出した信号から各々の位相を検出する参照干渉計と、 前記光カプラにより分割された他の一の光を参照ミラーとサンプル表面とで干渉させた干渉ビームから、前記第1の波長及び前記第2の波長の光を取り出して検出した信号から各々の位相を検出するサンプル干渉計と、を備え、 前記参照干渉計により検出された信号から各波長のDCオフセット成分と振幅誤差成分を算出して、前記サンプル干渉計により検出された位相を補正して前記サンプル表面における変位の絶対値を計測することを特徴とする干渉計測システム。
IPC (1)：
G01B 9/02
FI (1)：
G01B9/02
F-Term (20)：
2F064AA01 ,  2F064AA09 ,  2F064CC08 ,  2F064DD08 ,  2F064DD09 ,  2F064EE01 ,  2F064FF01 ,  2F064FF06 ,  2F064FF08 ,  2F064GG02 ,  2F064GG12 ,  2F064GG22 ,  2F064GG23 ,  2F064GG24 ,  2F064GG38 ,  2F064GG39 ,  2F064GG42 ,  2F064GG44 ,  2F064HH06 ,  2F064JJ01
Patent cited by the Patent：
Cited by applicant (3)
  • 米国特許4,355,899
  • 米国特許4,611,915
  • 米国特許4,830,486
Cited by examiner (2)

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