金属パラジウムおよび金を含む、音波処理を利用して製造される酢酸ビニル用触媒

Inventor： , ,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：社本一夫 (外5名)
Gazette classification：公表公報
Application number (International application number)：2001538075
Publication number (International publication number)：2003513789
Application date： Nov. 03, 2000
Publication date： Apr. 15, 2003
Summary：

【要約】多孔性支持体を含み、その多孔性表面に触媒上有効な量の金属パラジウムおよび金が沈着されている、エチレン、酸素および酢酸の反応による酢酸ビニルの製造に有効な触媒であって、上記支持体を上記金属の水溶性化合物の1つまたは2つ以上の水溶液で含浸し、上記金属を、1つまたは2つ以上の固着工程で、適切なアルカリ性化合物との反応によって、上記支持体上に水不溶性化合物として固着させ、そして上記触媒活性金属の水不溶性化合物を1つまたは2つ以上の還元工程でそれら化合物の遊離金属形に還元することを含み、ここで上記還元工程の少なくとも1つは、還元剤を中に溶解して含んでいるか、またはガス状還元剤が中を通って泡立てられ、かつ固着水不溶性金属化合物を含んでいる上記支持体が中に浸漬されている水性媒体中で、そのような水性媒体に対して音波処理を施しながら、即ちその水性媒体に超音波を適用しながら行われる諸工程によって製造される上記の触媒。

Claim (excerpt)：

エチレン、酸素および酢酸の反応による酢酸ビニルの製造に有効な触媒の製造方法であって、パラジウムおよび金を含む触媒活性のある金属の水溶性化合物の1つまたは2つ以上の水溶液で多孔性支持体を含浸する工程、該金属を、1つまたは2つ以上の固着工程で、適切なアルカリ性化合物との反応によって、上記支持体上に水不溶性化合物として固着させる工程、および該水不溶性化合物を1つまたは2つ以上の還元工程でそれら化合物の遊離金属形に還元する工程を含み、ここで該還元工程の少なくとも1つは、該固着水不溶性化合物を含んでいる支持体が浸漬されている、還元剤を含んでいる水性媒体中で、該水性媒体に音波処理を適用しながら行われる、上記の方法。

IPC (9)：

B01J 31/28 , B01J 37/02 101 , B01J 37/02 , B01J 37/03 , B01J 37/16 , B01J 37/34 , C07B 61/00 300 , C07C 67/055 , C07C 69/15

FI (9)：

B01J 31/28 Z , B01J 37/02 101 D , B01J 37/02 101 E , B01J 37/03 A , B01J 37/16 , B01J 37/34 , C07B 61/00 300 , C07C 67/055 , C07C 69/15

F-Term (43)：

4G069AA03 , 4G069AA08 , 4G069BA02B , 4G069BA21A , 4G069BA21B , 4G069BA21C , 4G069BA22C , 4G069BB10C , 4G069BC01A , 4G069BC02C , 4G069BC03A , 4G069BC03B , 4G069BC33A , 4G069BC33B , 4G069BC72A , 4G069BC72B , 4G069BE02C , 4G069BE08A , 4G069BE08B , 4G069CB30 , 4G069DA05 , 4G069EA02Y , 4G069FA01 , 4G069FA02 , 4G069FB08 , 4G069FB14 , 4G069FB19 , 4G069FB20 , 4G069FB43 , 4G069FB58 , 4G069FC04 , 4H006AA02 , 4H006AC48 , 4H006BA05 , 4H006BA25 , 4H006BA55 , 4H006BB61 , 4H006BE30 , 4H006KA13 , 4H006KC12 , 4H006KD00 , 4H039CA66 , 4H039CD90

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (1)

触媒、該触媒の製造方法および該触媒を使用して酢酸ビニルを製造する方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平10-350322 Applicant：セラニーズ・ゲゼルシヤフト・ミト・ベシユレンクテル・ハフツング

Article cited by the Patent：

Cited by examiner (1)

広辞苑第四版, 1991, p. 404

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