Pat

J-GLOBAL ID：200903041522211480

連続鋳造用鋳型への溶射方法

Inventor： 浜谷 秀樹 ,  一山 靖友 ,  北口 三郎 ,  小原 昌弘 ,  百合岡 信孝 ,  黒木 雅嗣 ,  嶋 哲男 ,  笠井 義則 ,  丹野 仁 ,  坂本 徳八郎 ,  佐々木 光正 ,  仲川 政宏 ,  石田 真
Applicant, Patent owner： 新日本製鐵株式会社 ,  第一メテコ株式会社
Agent (1)： 矢葺 知之 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1995154933
Publication number (International publication number)：1996225917
Application date： Jun. 21, 1995
Publication date： Sep. 03, 1996
Summary：

【要約】【目的】 溶射後のフュージング処理がなくても密着性が高く、皮膜が剥離しない連続鋳造用の鋳型、特に長辺への溶射技術を提供する。【構成】 銅または銅合金からなる鋳型表面の一部或いは全部に厚み0.1〜2mmのNi電気メッキを形成した後、このメッキ表面に粗度がRa=2〜8のブラスト処理を行い、次いで鋳型を50〜100°Cに加熱した後、(1)Ni=60〜80%、Cr=15〜25%、B=1.5〜5%、Si=2〜6%、C=0.5〜1%、Fe=3〜4%又は(2)Cr=5〜10%、B=1.5〜3.0%、Si=2〜4%、C=0.09〜0.60%、Fe=1.5〜3.5%、残部Niからなる粒径10〜60μmのNi基自溶性合金をフレーム速度が1300〜2300m/s の酸素/水素フレームで溶射した後、皮膜表面をRmax =1.6S〜6.3Sに仕上げる。

Claim (excerpt)：

銅または銅合金からなる鋳型表面の一部或いは全部に厚み0.1〜2mmのNi電気メッキを形成した後、前記Ni電気メッキ表面に粗度がRa=2〜4のブラスト処理を行い、次いで鋳型を50〜100°Cまで加熱した後、厚み0.1〜0.6mmでNi=60〜80%、Cr=15〜25%、B=1.5〜5%、Si=2〜6%、C=0.5〜1%、Fe=3〜4%および残部不純物からなるNi基自溶性合金を溶射ガンと前記Ni電気メッキ表面との距離が180〜300mmにてフレーム速度が1300〜2300m/s の酸素/水素フレームで溶射することを特徴とする連続鋳造用鋳型への溶射方法。

IPC (5)：

C23C 4/12 ,  B22D 11/04 312 ,  B22D 11/04 ,  C23C 26/02 ,  C23C 28/00

FI (5)：

C23C 4/12 ,  B22D 11/04 312 D ,  B22D 11/04 312 H ,  C23C 26/02 ,  C23C 28/00 A