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J-GLOBAL ID：200903041530152735

投影露光装置、投影露光方法、光洗浄方法および半導体デバイスの製造方法

Inventor： 尾形 太郎
Applicant, Patent owner： 株式会社ニコン
Agent (1)： 永井 冬紀
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1998067021
Publication number (International publication number)：2002025880
Application date： Mar. 17, 1998
Publication date： Jan. 25, 2002
Summary：

【要約】【課題】時間変化する光学系の透過率変化に拘らず感光性基板上の露光光の照度を目標値とすること。【解決手段】1枚目のウエハ25の露光を開始する前に、20000個のパルスを空打ちする。1回目と20000回目のパルスレーザ発振時に、インテグレータセンサ10と照度センサ28の出力信号を取込んで光学系の2つの時点での透過率を算出し、2つの透過率から透過率時間変化予測直線を算出する。露光が開始されると、透過率時間変化予測直線に基づいて光学系の透過率を露光経過時間によって算出して露光光の強度を制御する。したがって、実際の透過率変動に応じてウエハ上の照度を補償することができる。またウエハ25上での露光ドーズが目標値となるようにウエハ25に入射する露光光の積算光量を調節する。これにより、照明光学系や投影光学系の透過率が露光中に変動しても、ウエハ25上での露光ドーズが目標値となる。

Claim (excerpt)：

露光用光源からの露光光で照明されたパターンの像を感光性基板上に投影する光学系を備え、前記光学系における露光光の透過率が時間とともに変化する投影露光装置の投影露光方法において、前記露光光と略同じ波長の光に対する前記光学系の透過率を複数の異なる時点で測定し、前記測定された複数の透過率に基づいて、前記光学系の透過率の時間変化特性を予測して、その予測結果に基づいて前記感光性基板に前記パターンを投影することを特徴とする投影露光方法。

IPC (2)：

H01L 21/027 ,  G03F 7/20 521

FI (3)：

H01L 21/30 516 C ,  G03F 7/20 521 ,  H01L 21/30 514 C

F-Term (21)：

5F046BA03 ,  5F046BA04 ,  5F046BA05 ,  5F046CA04 ,  5F046CA07 ,  5F046CB02 ,  5F046CB05 ,  5F046CB08 ,  5F046CB12 ,  5F046CB13 ,  5F046CC01 ,  5F046CC02 ,  5F046CC15 ,  5F046CC16 ,  5F046DA02 ,  5F046DA12 ,  5F046DA27 ,  5F046DB01 ,  5F046DB03 ,  5F046DC05 ,  5F046DC12