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J-GLOBAL ID：200903041532711073

高周波加熱装置

Inventor： 吉野 浩二 ,  柏本 隆 ,  阿波根 明
Applicant, Patent owner： 松下電器産業株式会社
Agent (1)： 小鍜治 明 (外2名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1993088410
Publication number (International publication number)：1994302381
Application date： Apr. 15, 1993
Publication date： Oct. 28, 1994
Summary：

【要約】【目的】 本発明は高周波加熱装置に関するもので、食品などの被加熱物の加熱分布を均一にするとともに、効率的な加熱を行うことを目的とする。【構成】 マグネトロン1からの電磁波を加熱室3に導入するために、加熱室3と導波管2の接続部に第一の開口部5と第二の開口部6を設ける。そして金属板7は制御部8による駆動部9の制御に基づき開口部5、6の遮蔽・開放を行なう構成とした。この構成によって食品4は開口部5、6ごとの固有の電界分布を切り替えて加熱されるため、均一な加熱分布と効率的な加熱が実現できる。

Claim (excerpt)：

被加熱物を出し入れする加熱室と、電磁波を放射する電磁波放射部と、前記電磁波放射部から放射される電磁波を前記加熱室内に導く導波管と、前記加熱室と前記導波管との接続部に設けられた開口部と、前記開口部のうち少なくとも一部分を遮蔽したり開放したりできる金属板と、前記金属板を動かす駆動部と、前記金属板を動作させるため前記駆動部を制御する制御部とを有する構成とした高周波加熱装置。

IPC (4)：

H05B 6/72 ,  F24C 7/02 511 ,  H05B 6/68 310 ,  H05B 6/74

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (3)

• 特開昭60-010585
  
• 特開昭58-181292
  
• 特表平4-502684