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J-GLOBAL ID：200903041558923389

ガス分離膜及びその製造方法

Inventor： 岡本 健一 ,  田鹿 元昭 ,  松本 曠世 ,  畑野 茂和 ,  安藤 喜昌
Applicant, Patent owner： 東京電力株式会社 ,  三菱重工業株式会社
Agent (1)： 内田 明 (外2名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1995342699
Publication number (International publication number)：1997173801
Application date： Dec. 28, 1995
Publication date： Jul. 08, 1997
Summary：

【要約】【課題】 分子サイズの似たガスについても透過速度、分離係数が大きく、従来にない酸性ガスの高い透過性と分離性を有するガス分離膜及びその製造方法を提供すること。【解決手段】 一般式(A)で示される繰り返し単位を基本骨格とする芳香族ポリイミドであって、一般式(A)中のアルキル基の水素原子の一部又は全部がアミン化合物残基で置換されたアミン修飾ポリイミドからなることを特徴とするガス分離膜及びその製造方法。【化1】式(A)中X及びYは次の意味を表す。X:芳香族テトラカルボン酸化合物残基Y:少なくとも1個のアルキル基を置換基として有する芳香族ジアミン化合物残基

Claim (excerpt)：

一般式(A)で示される繰り返し単位を基本骨格とする芳香族ポリイミドであって、一般式(A)中のアルキル基の水素原子の一部又は全部がアミン化合物残基で置換されたアミン修飾ポリイミドからなることを特徴とするガス分離膜。【化1】式(A)中X及びYは次の意味を表す。X:芳香族テトラカルボン酸化合物残基Y:少なくとも1個のアルキル基を置換基として有する芳香族ジアミン化合物残基

IPC (3)：

B01D 71/64 ,  B01D 53/22 ,  C08G 73/10 NTF

FI (3)：

B01D 71/64 ,  B01D 53/22 ,  C08G 73/10 NTF