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J-GLOBAL ID：200903041584277754
位相シフトマスクブランク及び位相シフトマスク
Inventor：
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：
中村 静男 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1994041117
Publication number (International publication number)：1995248609
Application date： Mar. 11, 1994
Publication date： Sep. 26, 1995
Summary：
【要約】【目的】 単一の膜構成を有し、かつ、位相シフトを生じる所定膜厚での透過率を広範囲に設定できる位相シフトマスクブランクを提供する。【構成】 透明基板上に、実質的に露光に寄与しない強度の光を透過し、かつ透過した光の位相を所定量変化させる光半透過膜を有し、この光半透過膜が、フッ素と、炭素および窒素の少なくとも1種と、クロムとを含む膜からなることを特徴とする位相シフトマスクブランク。
Claim (excerpt)：
透明基板上に、実質的に露光に寄与しない強度の光を透過し、かつ透過した光の位相を所定量変化させる光半透過膜を有し、この光半透過膜が、フッ素と、炭素および窒素の少なくとも1種と、クロムとを含む膜からなることを特徴とする位相シフトマスクブランク。
IPC (2)：
FI (2)：
H01L 21/30 502 P
, H01L 21/30 528
