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J-GLOBAL ID：200903041620053396
新規なホウ素含有強酸、この製造および使用
Inventor：
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Applicant, Patent owner：
Agent (3)：
葛和 清司
, 望月 史郎
, 井上 洋一
Gazette classification：公表公報
Application number (International application number)：2007537146
Publication number (International publication number)：2008517002
Application date： Oct. 04, 2005
Publication date： May. 22, 2008
Summary：
本発明は、一般式(I)、[B(RF)4-x-y(CN)xFy]-H+(I)、式中、x=0、1、2、3または4であり、y=0、1、2または3であり、x+y≦4であり、またここで、配位子RFは、同一であっても異なっていてもよく、RFは、パーフルオロ化されているか、または部分的にフッ素化されているC1〜12アルキル基を意味し、ここで、CN基は、C原子を介してB原子に結合している、で表されるホウ素含有酸およびこの溶媒との錯体、本発明の酸の選択肢のカチオンおよびアニオンを含む塩、並びに当該塩の製造方法に関する。
Claim (excerpt)：
一般式(I)
[B(RF)4-x-y(CN)xFy]-H+ (I)
式中、
x=0、1、2、3または4であり、
y=0、1、2または3であり、
x+y≦4であり、
またここで、
配位子RFは、同一であっても異なっていてもよく、
RFは、パーフルオロ化されているか、または部分的にフッ素化されているC1〜12アルキル基を意味し、ここで、CN基は、C原子を介してB原子に結合している、
で表される酸およびこの溶媒との錯体。
IPC (2)：
FI (2)：
F-Term (3)：
4H048AA01
, 4H048AA03
, 4H048AB80
