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J-GLOBAL ID：200903041623666410

希薄燃焼ガス機関の排気浄化装置

Inventor： 中園 徹
Applicant, Patent owner： ヤンマーデイーゼル株式会社
Agent (1)： 篠田 實
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1991220927
Publication number (International publication number)：1993039716
Application date： Aug. 05, 1991
Publication date： Feb. 19, 1993
Summary：

【要約】【目的】 希薄燃焼式のガス機関において、排気中のHCの浄化を効率よく行う。【構成】 排気弁3直後の排気路中に酸化触媒6を配置する。【効果】 排気弁が閉じた後、排気弁直後の排気路中に排気ガスが滞留している間に高濃度且つ高温度のHCと酸化触媒とを時間をかけて接触させることができ、HCの浄化率が高まる。

Claim (excerpt)：

機関の排気弁直後の排気路中に酸化触媒を配置したことを特徴とする希薄燃焼ガス機関の排気浄化装置。

IPC (2)：

F01N 3/28 301 ,  F01N 3/24

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (4)

• 特開昭61-034321
  
• 特開平3-033410
  
• 特開平3-023308
  
• 特開平4-287820