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J-GLOBAL ID：200903041639034120

電子ビ-ム描画装置

Inventor：
佐藤 秀寿

About 佐藤 秀寿

, 
酒井 広之

About 酒井 広之


Applicant, Patent owner：
株式会社日立製作所

About 株式会社日立製作所


Agent (1)： 小川 勝男
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1995082267
Publication number (International publication number)：1996287862
Application date： Apr. 07, 1995
Publication date： Nov. 01, 1996
Summary：
【要約】 (修正有)【目的】 高精度でコンパクトな高さ検出器、及びこの高さ検出器により高精度化を図ることができる電子ビーム描画装置を提供する。【構成】 光源から出た光をスリット53に照射し、スリットの像を試料に斜め方向からレンズ54により結像し、反射光をレンズ55により受光素子面上に結像して試料面の高さを検出する高さ検出装置において、試料面9に近いレンズ54とレンズ55の外形を通常の球面凸レンズのような円形でないもので構成した。1つの例としてレンズの光軸方向に平行な2つの平面をもつレンズで構成した。【効果】 通常の球形凸レンズと比較してレンズ開口の面積が増加し、試料面への入射光量の増加が図れ、高さ検出信号のS/Nが改善されて、電子ビーム描画装置の精度向上が図れる。
Claim (excerpt)：
電子ビーム源と、該電子ビーム源からの電子ビームを基板に照射するための電子光学系と、白色光源と、該光源から所定の面積の光ビームに取り出すためのスリットと、上記光ビームを上記基板へ照射するため、上記電子光学系に設けられた光学手段とから成ることを特徴とする電子ビ-ム描画装置。
IPC (6)：
H01J 37/305 ,  G03F 7/20 504 ,  G03F 7/20 521 ,  G21K 5/04 ,  H01J 37/21 ,  H01L 21/027
FI (6)：
H01J 37/305 A ,  G03F 7/20 504 ,  G03F 7/20 521 ,  G21K 5/04 M ,  H01J 37/21 Z ,  H01L 21/30 541 Z
Patent cited by the Patent：
Cited by examiner (12)
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