Pat

J-GLOBAL ID：200903041640085685

基板熱処理装置

Inventor： 久井 章博
Applicant, Patent owner： 大日本スクリーン製造株式会社
Agent (1)： 福島 祥人
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1996178010
Publication number (International publication number)：1998022189
Application date： Jul. 08, 1996
Publication date： Jan. 23, 1998
Summary：

【要約】【課題】 基板の加熱および冷却処理において基板の温度履歴の制御が可能な基板熱処理装置を提供する。【解決手段】 共通の処理空間3の内部にホットプレート1とクーリングプレート2とを上下方向に対向して配置する。下方に配置したホットプレート1の下方には、基板10を昇降移動させる基板昇降部材4を配置する。処理対象の基板10はホットプレート1上に近接配置されて所定の熱処理が施され、その後、基板昇降部材4によってクーリングプレート2の所定位置に近接保持され、クーリングプレート2により所定の温度にまで降温処理が行われる。

Claim (excerpt)：

熱処理室の内部に基板を保持し、前記基板に対して所定の熱処理を行う基板熱処理装置において、前記基板を所定の温度に設定する第1の基板温度設定手段と、前記基板を前記所定の温度と異なる温度に設定する第2の基板温度設定手段とを共通の前記熱処理室の内部に設けたことを特徴とする基板熱処理装置。

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (4)

• 特開平3-069111
  
• 熱処理装置及び熱処理方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平5-352996   Applicant：東京エレクトロン株式会社
• 特開昭64-028918
  
• 特開平2-187015
  

Cited by examiner (4)

• 特開平3-069111
  
• 熱処理装置及び熱処理方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平5-352996   Applicant：東京エレクトロン株式会社
• 特開昭64-028918
  
• 特開平2-187015