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J-GLOBAL ID：200903041646616810

露光装置

Inventor： 難波 永 ,  米川 雅見
Applicant, Patent owner： キヤノン株式会社
Agent (2)： 丹羽 宏之 ,  野口 忠夫
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2004305604
Publication number (International publication number)：2006120776
Application date： Oct. 20, 2004
Publication date： May. 11, 2006
Summary：

【課題】X線露光装置用マスクへの浮遊粒子の付着を抑制するための手段を提供する。 【解決手段】マスクステージ3に保持された静電チャック2にはセラミクス基板中に電極11が埋め込まれており、電圧をかけることにより、マスク1を下向きに吸着、保持する。そのマスク1の吸着を行う電極11の周囲に別の電極12を配置し、電極11より高い電圧をかけ、マスク1の吸着領域よりもより強い帯電領域を形成させることにより、浮遊粒子を吸着することができる。 【選択図】図2

Claim (excerpt)：

光、電子線、放射線等を用いて所望の回路パターンをウエハ上に転写する露光に用いられる露光用マスクにおいて、マスク近傍に電界を発生する粒子付着抑制手段を有することを特徴とする露光装置。

IPC (3)：

H01L 21/027 ,  G03F 1/16 ,  G03F 7/20

FI (5)：

H01L21/30 531A ,  G03F1/16 A ,  G03F7/20 503 ,  H01L21/30 503G ,  H01L21/30 531M

F-Term (12)：

2H095BA10 ,  2H095BB30 ,  2H097CA15 ,  2H097LA10 ,  5F046AA17 ,  5F046AA22 ,  5F046BA03 ,  5F046CB17 ,  5F046GA07 ,  5F046GA12 ,  5F046GB00 ,  5F046GD00

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (1)

• マスクハンドリング装置、平板投影装置、素子製造方法およびそれによって製造された素子
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2001-252721   Applicant：エイエスエムリトグラフィーベスローテンフエンノートシャップ